黃光曝光是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟，涉及在硅片表面涂布光刻膠，通過黃光掩膜版進(jìn)行曝光，使光刻膠在特定區(qū)域曝光固化，形成電路圖案。該過程對精度和潔凈度要求極高，需嚴(yán)格控制曝光時間、光源強度等參數(shù)，以確保圖案的準(zhǔn)確性和一致性。黃光...