在半導(dǎo)體制造中，曝光機(jī)光譜是關(guān)鍵技術(shù)之一，它通過(guò)精確控制光線的波長(zhǎng)和強(qiáng)度，將電路圖案“繪制”在硅片上。這一過(guò)程就像是在進(jìn)行一場(chǎng)光之舞曲，要求極高的精度和穩(wěn)定性。曝光機(jī)光譜的原理基于光學(xué)原理和光刻技術(shù)，通過(guò)使用特定的光源和透鏡...