北京液體曝光機(jī)作為微電子制造領(lǐng)域的一項(xiàng)突破性技術(shù),正引領(lǐng)行業(yè)邁向高效精密的新未來(lái),該設(shè)備采用先進(jìn)的浸沒(méi)式光刻技術(shù),通過(guò)液體介質(zhì)提升光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑,顯著提高了曝光分辨率和芯片制程精度,可支持7納米及以下節(jié)點(diǎn)的集成電路生產(chǎn),...
在微電子制造領(lǐng)域,曝光機(jī)氣體扮演著至關(guān)重要的角色,它作為光刻過(guò)程中的關(guān)鍵介質(zhì),直接影響著芯片的制造精度和性能,曝光機(jī)氣體主要包括氮?dú)?、氬氣等,它們?cè)诠饪踢^(guò)程中起到保護(hù)和穩(wěn)定芯片的作用,防止光刻膠在曝光過(guò)程中受到污染或損傷。,...
電阻曝光工藝是微電子制造領(lǐng)域中的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),它被形象地稱(chēng)為“隱形藝術(shù)家”。在微電子制造的復(fù)雜過(guò)程中,電阻曝光工藝扮演著至關(guān)重要的角色。它通過(guò)在光刻膠上形成電阻圖案,將設(shè)計(jì)好的電路圖形精確地轉(zhuǎn)移到硅片上。這一過(guò)程需要極高的精...
沒(méi)有更多內(nèi)容