光刻技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)
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發(fā)布了文章 3個(gè)月前LDI曝光機(jī)與LED曝光機(jī)，光刻技術(shù)新紀(jì)元的優(yōu)缺點(diǎn)解析
隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的不斷進(jìn)步，光刻技術(shù)也迎來了新的發(fā)展機(jī)遇。LDI（激光直接成像）曝光機(jī)和LED（發(fā)光二極管）曝光機(jī)作為兩種主流的光刻設(shè)備，各自具有獨(dú)特的優(yōu)缺點(diǎn)。LDI曝光機(jī)具有高精度、高生產(chǎn)效率、低缺陷率等優(yōu)點(diǎn)，能夠滿足高...
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