隨著半導體制造技術的不斷進步，光刻技術也迎來了新的發(fā)展機遇。LDI（激光直接成像）曝光機和LED（發(fā)光二極管）曝光機作為兩種主流的光刻設備，各自具有獨特的優(yōu)缺點。LDI曝光機具有高精度、高生產效率、低缺陷率等優(yōu)點，能夠滿足高...