電子束曝光（Electron Beam Lithography, EBL）是一種高精度的微納加工技術，常用于制造半導體器件和微納結構，當曝光劑量過大時，會帶來一系列挑戰(zhàn)，過大的曝光劑量會導致電子束散射和衍射，降低圖像的分辨率...