線陣曝光是現(xiàn)代光刻技術(shù)的核心工藝之一，它利用光敏材料在硅片表面形成微小的電路圖案。該工藝通過精確控制光源和掩模，將電路圖案投射到硅片上，并通過一系列化學(xué)反應(yīng)將圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。線陣曝光技術(shù)具有高精度和高分辨率的特點(diǎn)，能夠制造...